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概述用于压力校验仪制造的反射镜的精密EUVL光学涂层

作时间:2016-11-25  来源:  作者:
   

Rigaku创新技术公司宣布制造用于压力校验仪制造的反射镜的精密EUVL光学涂层

对于将晶片图案高速印刷到晶片上的压力校验仪

         高性能多层光学全球供应商Rigaku Innovative Technologies(CTO传感器)宣布推出一系列用于制造半导体工业晶片图案印刷反射镜的精密极紫外光刻(EUVL)光学涂层。 CTO传感器的压力校验仪是在扫描仪工具内使用的光链的关键要素,其以每小时125个晶片的速度将芯片图案印刷到晶片上。

         CTO传感器涂层用于下一代光刻技术,其将使得半导体工业能够继续减小印刷晶体管尺寸。这通过大大增加可以在芯片上印刷的晶体管的数量来增加器件功能。此外,芯片消耗更少的功率,这是延长器件电池寿命的关键因素。新芯片将用于继续智能手机技术,GPS设备,家庭娱乐和许多其他无线应用的发展。

         CTO传感器在世界级压力校验仪设计和制造方面拥有30多年的经验,是该行业唯一的独立体积制造商。它是最早投资研发用于EUVL设备的多层涂层的公司之一。这种深厚的经验基础独特地使Rigaku满足半导体行业要求的精度要求。

         基于其独特的现有“在线”多层涂层沉积系统,CTO传感器最近开发并安装了第二个在线高通量系统。新的沉积系统由两个独立的在线系统组成,可同时沉积4个直径达800毫米的大型光学元件。它还可用于在同步加速器和其他应用中实现高达1.5米长的基板上的高精度涂层,具有复杂的2维d间距分布模式。新系统还具有非常低的缺陷率。

         作为x射线/ EUV多层涂层的领导者,Rigaku光学在整个产品系列中具有更好的性能和更好的性能一致性。此外,Rigaku已经开发了一个过程,以翻新光学接近原始的性能水平。翻新过程增加了光学寿命并抵消了污染和辐射损害的影响,对于降低生产成本至关重要。

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